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標題: 11/9 中華凸版奈米光罩論壇 [打印本頁]

作者: jiming 時間: 2007-11-5 01:51 PM
標題: 11/9 中華凸版奈米光罩論壇

在台成立10週年與IC設計業者及半導體製造商共同成長

中華凸版電子(TCE)將於11月9日於新竹國賓飯店舉辦「Access the Latest Photomask Technologies at Toppan Technology Forum 2007」論壇活動，邀集半導體業界技術菁英共同參與。中華凸版的母集團日商凸版印刷(Toppan)長期與全球知名研發團隊合作，例如IBM及IMEC等，該些廠商此次也都將在論壇中發表次世代的奈米光罩解決方案。中華凸版表示，舉辦論壇的目的，在於提供海內外高科技廠商1個技術交流的平台與互動機會，並也期盼透過該技術饗宴，提升台灣半導體產業在尖端科技領域中的國際地位。

中華凸版由日本凸版印刷在台與華映共同設立，凸版印刷為世界先進的半導體光罩製造商，是除台積電自有光罩廠，於全球光罩廠中市佔率連續2年維持第一的業者。2007年為中華凸版在台成立10週年，該公司表示，舉辦論壇除感謝所有客戶的支持外，也宣示其將持續在台灣生根茁壯，並彰顯以往在光罩市場中，幾乎完全以價格因素主導的模式將逐漸勢微，未來取而代之的將是品質、交期、服務與技術等條件，是否真正能符合客戶所需。

中華凸版是台灣第一個擁有量產65奈米、90奈米及130奈米技術Logic IC以及70奈米、90奈米及110奈米技術Memory IC的merchant光罩廠，在日本凸版技術奧援的優勢下，能以尖端的技術滿足客戶的需求，目前積極不斷地與國內外主要客戶合作，以期於最短的時間內通過客戶的認證。

目前日本凸版除與IMEC Industrial Affiliation Program(IIAP)研究193奈米浸潤式顯影技術(193nm Liquid Immersion Lithography)外，並與IBM共同發展45奈米光罩製程。此外，其也預計於2008年起，陸續進行上述技術的移轉，期為國內外客戶提供最先進及完善的服務。

中華凸版表示，母集團日商凸版印刷長期扮演先進技術提供者及產能支援調配的關鍵角色，所開發的先進製程都會以最快的速度，穩定將技術移轉至中華凸版，提供完善的光罩解決方案，服務台灣的客戶。同時，也因為這層優勢，中華凸版持續獲得設計業者及半導體製造商的青睞，並與客戶建立長期的夥伴關係，讓彼此能在半導體的洪流中，相互支持，穩定成長。活動網址：http://www.tce.com.tw/forum2007。

[ 本帖最後由 jiming 於 2007-11-5 01:53 PM 編輯 ]

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