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標題: Mentor Graphics 將於EDA Tech Forum 2009 [打印本頁]

作者: heavy91    時間: 2009-8-17 05:40 PM
標題: Mentor Graphics 將於EDA Tech Forum 2009
2009817,台北訊EDA電子自動化廠商Mentor Graphics 明導國際,將於825(星期二)新竹國賓大飯店舉辦EDA Tech ForumMentor Graphics總裁暨執行長Walden Rhines為此特別來台,將與您分享掌握優勢技術、推動產業成長的秘訣心法。除此之外,也邀請了智原科技SoC服務處的吳坤城處長,分享其在IC設計領域的寶貴心得,包括設計點滴、半導體產業的合作模式以及未來趨勢。 $ w: D4 }  M  f
  EDA Tech Forum共有16場技術講座,搭配會場上產品展位的介紹與demo,與您分享最新技術與方法,協助您進行從ESLPCB的完整設計;包含新的高階合成方法、低功耗的驗證技術、Calibre® DFM與佈局繞線(P&R)的整合流程、還有先進PCB設計中熱流模擬的方法,皆能協助您完成高效能的系統設計、切實感受Mentor Graphics低功耗高效能的產品魅力!此外包括AlteraARM(安謀)The MathWorksTSMC(台積電)Common Platform等多家合作夥伴也將與會分享最新的設計技術和產品。
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  本活動完全免費!會中除了準備一系列精美的樂活小禮、讓您在生活中輕鬆實踐愛地球之外,還準備了高級觸控手機、Sony PSPiPod nano(8G)要送給您!現場座位有限,趕緊上網報名參加EDA Tech Forum吧!活動相關細節,請參考:http://www.edatechforum.com.tw/
作者: sunny.yu    時間: 2009-9-9 07:32 AM
Mentor「EDA Tech Forum」探討先進設計技術
6 |, Q1 R5 p: }& P8 D' _/ m8 |電子工程專輯 - ‎6 hours ago‎
! U( s- ]4 K% F, A稍早前,明導國際(Mentor Graphics)在台舉辦了「EDA Tech Forum」,共有300多個客戶及工程師參與,共同就新的高階合成方法、低功耗驗證技術、Calibre DFM與佈局繞線(P&R)的整合流程、先進PCB設計中熱流模擬的方法等設計技術進行了探討。 「EDA Tech Forum」的目標是扮演 ...




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