Chip123 科技應用創新平台
標題:
請問關於tsmc018製程裡面的pwell
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作者:
tshiu
時間:
2009-10-26 04:11 PM
標題:
請問關於tsmc018製程裡面的pwell
請問通常在什麼情況之下NMOS需要包PWELL
/ ^2 t" O& w; c" C
PWELL對阻隔雜訊地效果好嗎
! Y7 m( U( p0 y4 i6 q+ z& J! B
(因為之前用35製程只有PMOS包NWELL)
作者:
tshiu
時間:
2009-10-26 06:10 PM
目前知道在18製程裡面使用PWELL會多一道光罩程序
% o6 D4 _/ V O0 i S! x
可以增加NMOS的參雜濃度
作者:
小緯仔
時間:
2009-10-27 10:44 PM
當你sub的電位不一樣時
% o% z0 W- u t2 H
8 H7 l+ \6 m( ?, I
也可以使用!
作者:
singt1496
時間:
2009-10-29 03:01 PM
通常不只有一組低電位時會用到psub2這層layer,但還是要看ocmmand怎麼決定的…
作者:
motofatfat
時間:
2009-11-11 10:14 AM
看你ㄉ 製程 決定
% W4 Q: J6 ?" _9 y
通常 T ㄉ PWELL 光罩
1 g' e0 _ U$ c: I* T* D4 w
都是 NWELL 的資料 邏輯 運算 出來
9 q3 ^6 A' A1 Z N2 x$ L
所以要看你ㄉ DESIGN RULE
+ R( n8 r: Y: j- u! t( o5 t
和 光罩製程資料
" ^* i2 F7 g ^! y/ @2 J
7 ]5 x6 k& {7 ^' ^" U, J
PWELL對阻隔雜訊地效果好嗎' 還是要看製程
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