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標題: <转>避免Antena该往上还是往下跳线 [打印本頁]

作者: jeffcui18    時間: 2011-11-29 11:49 PM
標題: <转>避免Antena该往上还是往下跳线
<转自sinovale dot com>关于天线效应我在<浅析集成电路中闩锁效应和天线效应>一文中有提到过。天线效应的产生粗略的讲就是金属表面积累的电荷过多,但又无法形成对地的放电通路,结果很有可能是对栅氧造成破坏。由于现代工艺尺寸越来越先进,沟道长度越来越小,antena的问题就越来越受重视。通常,我们通过金属跳线或者在poly-gate旁边放置足够面积的diode可以避免天线效应的发生。但是金属该往上跳还是往下跳呢?+ B$ R$ \, k/ J- h  P

7 @) x6 D0 h$ ]) |# P! hProcess
' b* W$ E9 O6 d8 p5 Q+ f8 E
5 O! n7 g  J7 e) F我们都知道fab在做mask的时候是从低层往高层做的。process在每一道工序都有诸如平坦化,隔离等,之后肯定会有静电泄放的操作。从这个角度来说,假如metal3过大有antena的问题,我们用metal4对其跳线。在做metal3的mask时,metal3实际上分开的,只有做到metal4的时候他们才会连起来,而到metal4时,metal3的表面电荷已经由于工艺过程减少很多了;而如果用metal2对其跳线,在做metal3时,metal2和metal3是会相连的,并没有起到减少电荷的作用。1 p/ y) V( d) Q) i0 W1 P
( N4 x5 ]5 R3 n4 q0 C7 s
栅氧漏电,尽管对功耗不利,但对天线效应是有利的。栅氧漏电可以防止电荷积累达到击穿。所以,实际上可以看到薄的栅氧较厚栅氧不易发生损坏,因为当栅氧变薄,漏电是指数上升的,而击穿电压是线性下降的。
/ s( [! ]; {' Z2 e8 P7 {8 h3 t: H- R3 C
我常用的三个避免antena的方法5 o* B6 B' q9 _* }2 p, ^) K. }8 E
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1,跳线,而且最好是往上跳线* W5 B& H7 W. t

" l# g1 F$ n1 L! ]2,增加NAC diode' j5 |( s+ }8 g7 a- x

) k+ Q: v* T$ E! p3,在信号线上加一组buffer,这个方法既可以规避antena,也可以为signal增加驱动
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' N. _9 f5 \) W7 PDRC* I6 A# \+ S! d1 P+ S9 ^

) i9 r; m; P* o* b( }; F: W一般来说command file会定义检查是否antena metal连到gate-poly上,还有是否面积过大。解决方法我建议是在靠近gate-poly的地方断开metal用高层metal跳一下,当然这在drc中可能不太好查,所以drc一般规定在发生antena的metal上有一个N-diode(最好是close to gate)。. R( t) p8 F0 R) a( D
0 C( x1 I, o& J% E) r
<转自sinovale dot com>第一次发帖请大家海涵。
作者: MTK1019    時間: 2011-12-5 01:56 PM
1.天线效应收集的电荷,要通过有源区泄放掉。必须是向上跳 向下跳无任何作用。只要跳上一层金属就可以。至于为什么你要去了解下工艺流程。金属是先溅射一片,然后刻蚀。




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