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標題:
數位IC Cell_based IC Compiler DRC LAYOUT ERROR 問題
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作者:
葉崇孝@FB
時間:
2016-9-11 10:43 PM
標題:
數位IC Cell_based IC Compiler DRC LAYOUT ERROR 問題
因為我是一個剛學數位IC合成的初學者,所以不太懂DRC某些錯誤
: C. W+ E7 q4 b) X3 J
的處理方式,最近在APR和ROUTE完後,執行DRC,出現了三個錯誤
3 k% G: ]) d4 i5 F
CHECK M1.S.1
9 `3 ?2 q' q& M+ Z
CHECK DPO.EN.1
9 G' m* ], o7 X1 I
CHECK PO.R.8
: a% _* r+ N1 Y: i& u1 h
想請問大大們,這三個錯要如何解決?
: l% g. N& o9 p
能否下某些指令解決呢?
. R2 Z( x: o& Z
3 _' a5 I: {& N; n
作者:
李寶容@FB
時間:
2016-9-14 12:00 PM
CHECK M1.S.就是METAL 1的距離太近 把他拉遠就好~
/ n+ E+ r2 R2 X& m+ D& [9 U' R- |
如果是.35製成的話,是0.45
+ v: a' W! l' o( R- C
CHECK PO.R.8 是POLY的密度不夠,要補DUMMY
! j: a; t% ]1 e
不過如果是練習的話,可以把跟密度有關的ERROR都忽略掉
1 K' b, j7 z% A" K/ c& C8 ]
DRC的所有ERROR下面應該都會有詳細的內容
_. J% f, I) m' X( [ K
把英文看一看吧~
2 F) T+ T' l u- X
不然這種問題會問不完喔
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