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標題: 實現65 nm設計需要購買哪些DFM工具? [打印本頁]

作者: chip123    時間: 2006-11-17 08:48 AM
標題: 實現65 nm設計需要購買哪些DFM工具?
對DFM選手過篩 7 v; l) o' P7 z& L4 D1 ^  f
技術分類: EDA工具與服務   作者:Michael Santarini,EDN高級編輯  發表時間:2006-11-15 $ G% C: k/ x# f0 r" @: @1 q  S) F
http://article.ednchina.com/EDA/20061101072738.htm+ P6 G  F. m: \) ~: V2 ?( p8 M
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  每月都會冒出新的DFM工具公司,很難為65 nm工藝做出選擇。但在65nm工藝節點方面的三家頂級代工廠已經代你做了一些選擇工作。
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; T+ m7 k$ U* {0 s6 S1 S& G# `1 s       DFM 是表示“面向製造的設計”還是“面向市場的設計”?自從數年前提出這個名詞以來,這是很多 EDA 業觀察家一直在問的問題。在 0.13mm節點,光刻設備無法清楚地印出某些半導體的正片,EDA 供應商(如 Numberical Technologies 和 OPC Technologies8 d) h4 X+ w9 a) v8 W+ K% Z/ t$ |
)便用 OPC(光學近似校正)工具進行挽救。當設計工藝繼續縮小到90 nm和65 nm時,光刻、掩膜製作以及晶圓都更加依賴于EDA供應商的創造和對設計工具的修改,才能保證晶片的精確製造。晶圓廠甚至要轉向EDA工具來幫助提高成品率,而這曾經是晶圓廠唯一的任務,也是最大的賣點。: R* e% v- G" B5 z: s2 A
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  過去四年來,EDA 業的收入一直保持在穩定的 40 億美元,它已經把 DFM 看作一種很有希望的收益增長途徑。不久前,這一看法又得到了有力地確認,三家採用 65 nm 工藝的最大代工廠都在自己的參考流程中增加了一些 DFM 技術,它們是 TSMC(台積電)、UMC(聯華微電子公司)和 CIS(Chartered/IBM/Samsung)聯盟。這樣一來,便將提高晶圓品質和產量的更多責任放在了設計者肩上。8 n, {3 a& a$ x: ], _
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  幸好,不少 EDA 供應商都願意為您提供 DFM 工具。事實上,每月似乎要湧現至少一家新興 DFM 公司,並向全世界宣稱擁有重要的技術。同時,有些老公司也採用對既有技術做少許修改的方法(但多數公司只是改動一下自己的行銷口號),然後神奇地搖身變成 DFM 供應商。而 EDA 巨頭們(Cadence、Synopsys、Mentor 和 Magma)則努力在已有的流程中增加 DFM 技術和功能,並重新劃分成 DFM 類工具,其中大多數來自物理設計、物理驗證、面向測試的設計以及 TCAD(電腦輔助設計技術)系列。6 p, k7 |& F  D, K( D
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  六月份,研究公司 Gartner Dataquest 認定了 16 家 DFM 公司提供的工具,佈局工程師會用到這些工具。這些公司是:
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       Anchor Semiconductor、Aprio Technologies、Blaze DFM、Brion Technologies、Cadence、ChipMD、Clear Shape Technologies、Ponte Solutions、Magma Design Automation、Mentor Graphics、Nanno Solutions、Nannor Technologies、Predictions Software、Sigma-C、Synopsys 和 Xyalis* h/ o/ b! y; T+ d7 {9 [  Y( S
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     這個名單中並不包括統計時序(statistical-timing)工具的廠商,但它應當包含其中(見附文“統計時序將成為 DFM”)。EDA 市場的 DFM 區段已經變得相當大,現在存在著多個 DFM 的子類別。; w7 y$ s7 Y  L9 I
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  綜合以上情況,你也許想瞭解實現 65 nm 的設計需要購買哪些工具。簡單的回答是需要多種工具。
作者: yhchang    時間: 2008-2-13 03:27 AM
DFM有太多面向了
8 T8 u, q' ]; |: v* V9 K; d: `對製程人員來說 DFM必須要能反映真實的製程難度9 I  x# L0 V) h) T( }2 h7 A
對設計人員來說  DFM的使用介面必須要友善又實用7 O7 x  s  k( k
對EDA工程師來說,  DFM 必須是個可以幫助 設計人員縮短設計時間的好軟體




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