4 }4 ?$ E, l4 O) S 在傳統的光刻工藝當中,一束鐳射用來雕刻硅片上的一道溝槽,而後,這些溝槽會經過化學物質的處理,填滿鋁。而壓印微影技術是將一個模具壓入硅片的溝槽當中,從而將金屬填充物印在溝槽上。 # C' Z% C! f1 ]9 x+ L; U2 |* e* i7 F+ N6 n9 `" C% T
和傳統的光刻技術相比,壓縮印技術所產生的線路更小,但是,壓印微影技術還沒有被廣泛使用。這種技術在電路線非常規則時發揮的效果最好,假如將壓印微影技術和惠普的交叉點技術相結合,那麼效果就非常的好了:交叉點網格包含了兩層並列的線路,這些線路都呈90度角排列。 1 k# O, B$ A' M* P$ v6 h 1 R9 ], P9 Y# B% z 硬盤製造商們正在考慮採用壓印微影技術來製造未來的硬盤。6 q" s! R' ?, h/ b
1 I! W1 Z: I% Z1 a% ?3 M
惠普的報告將刊登在1月24日出版的奈米科學雜誌上,惠普希望給業界一個驚喜。7 a9 H v/ A8 m. i
( D2 j1 j( h0 S& H# Q, u Williams說:“我們認為這是一個偉大的構想。”(Z102)作者: masonchung 時間: 2007-1-24 09:53 AM
這種奈米級的晶片初期的確需要用FPGA來實現4 R/ A5 y4 ~% x. A2 m% e
應該是奈米級網路晶片會最先來試驗這個交叉點通訊系統 # o8 E- b7 W, }/ n& V* P4 }"45奈米電晶體和4.5 奈米線路網組成的FPGA晶片體積,僅僅是標準的45奈米工藝FPGA晶片體積的4%# v% v7 c( r- o& V f% t
這種新型晶片的時鐘速度可能不會很高,其耗電量將相當的低",這是很有競爭力的FPGA技術 . h" W8 X3 r8 \0 t+ W' A* r. S' a加上壓印微影技術,看來為未來的半導體大廠會被印表機大廠給取代嗎:o