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標題: 羅門哈斯電子材料擴大IC1000研磨墊產品線陣容 [打印本頁]
作者: jiming    時間: 2007-7-11 10:42 AM
標題: 羅門哈斯電子材料擴大IC1000研磨墊產品線陣容
提供一系列支援量產的先進技術功能
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6 L/ A8 D: R; K* l; ^# r- v: h新型IC1000 AT低缺陷率研磨墊和IC1000 AT長效型研磨墊  r1 A: D& x: A7 V
正可滿足各類半導體製造商不斷改變的生產需求6 I* o( w& t% B* N" c

# _) Q" u; g' r全球半導體產業之化學機械研磨技術領先與創新廠商--羅門哈斯電子材料公司CMP Technologies事業部，日前宣佈將擴大其IC1000研磨墊產品線陣容，推出兩款利用先進溝槽技術降低量產缺陷率與持有成本的新研磨墊產品。
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IC1000 AT低缺陷率研磨墊 (Defect Reduction Pad) 採用了創新的獨家專利溝槽設計，此一將晶圓和溝槽流體力學原理最佳化的設計，可有效降低缺陷率。常數區溝槽能移除晶圓表面所受的局部壓力，將刮痕與缺陷減到最少，不論在8或12吋平台作業均可降低最多達五成的缺陷率。對於需要大幅降低缺陷率，而又無法進行新研磨墊材料認證的客戶而言，IC1000 AT低缺陷率研磨墊是最理想的選擇。
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IC1000™ AT長效型研磨墊 (Long Life Pad) 則可降低設備持有成本和延長設備運轉時間，其設計能確保適當的研磨墊硬度和研磨液流動，因此不需增加研磨液使用量，即可維持良好的研磨平坦度和均勻度。此外，最佳化溝槽設計還可將研磨墊的使用壽命延長30%，確保進行各種裝置量產時能以更低的研磨墊成本創造更高的產量。
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8 s, s  ?- i7 }0 e羅門哈斯電子材料公司CMP Technologies事業部技術副總裁Cathie Markham表示：「這次所推出的兩款新型研磨墊產品，不僅擴大了我們IC 1000研磨墊產品線陣容，對於正在使用90nm及以下製程的半導體客戶而言，更可滿足他們不斷改變的生產需求。在完全沒有改變材料的情況下，我們這兩款新研磨墊提供了更長的使用壽命和更高的生產效能；透過我們突破性溝槽技術可大幅改善缺陷率的問題，而長效型研磨墊則為客戶創造了更佳的成本競爭優勢。」
作者: heavy91    時間: 2008-5-14 04:58 PM
羅門哈斯電子材料公司獲頒SSMC 2007年最佳供應商獎1 d: Y8 R2 L  r# g5 s: R$ B
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新加坡-5月14日-全球半導體產業之化學機械研磨技術領先與創新廠商--羅門哈斯電子材料公司今天宣布其CMP Technologies事業處 獲頒Systems on Silicon Manufacturing Company’s (SSMC’s) 2007年年度最佳供應商.這也是羅門哈斯在4年內年第二次從SSMC獲得此項殊榮。這個獎項是類似羅門哈斯今年三月所獲得的日立半導體新加坡卓越供應商獎。
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+ U! h$ K1 j$ o0 ~, t. o “SSMC是建立於與供應商建立持久的夥伴關係哲學基礎上，羅門哈斯長期以來不斷提供我們最高水平的服務 “SSMC  Corporate Service Division 副總裁Lee On Nam說。 “我們向羅門哈斯CMP Technologies事業處表示我們的祝賀，並感謝它的努力及長期的支持。我們期待著繼續我們的夥伴關係“
# A8 G2 o4 H5 I' F( N2 J& l
/ M* J5 T9 Z, X% J* i$ U- Y羅門哈斯電子材料獲得這獎項，是基於其在SSMC的供應商評級制度的表現，其中物料供應商評估的基礎為，在該領域的技術支持，品質，回應(responsiveness)，承諾(commitment)，依賴(dependency)，物流和價格。
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“在過去的一年，我們產品及服務的品質和我們的支持被SSMC承認是一種殊榮。同時，為這一成就，我們要再次讚揚S. H. Chuah和整個東南亞的團隊 ” 羅門哈斯電子材料CMP Technologies全球銷售和市場營銷executive vice president, Mario Stanghellini說 “作為一家公司，我們作了巨大努力，在提供所有產品的品質和一致性，以及提供新技術和支持世界各地的半導體製造商。贏得多個供應商獎更是證明，我們實踐我們的承諾提供高品質的服務給客戶“ 。- R! W5 k; [# [/ x. X9 O1 w

6 E1 X( B5 S1 ?6 Z1 c “我們對於能作為作為SSMC的重要合作夥伴表示感謝，多年的緊密合作使我們發展良好的相互關係， “羅門哈斯電子材料CMP Technologies東南亞managing director S. H. Chuah 說 “我們正致力於支持SSMC ，我們期待著與SSMC團隊更緊密合作邁向卓越的成本，健全的品質，並獲得技術和長期成功” 。$ Y7 o3 E5 P0 j$ Y# n' y

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: Z$ x4 f( p% C# ]+ q3 s$ {[ 本帖最後由 heavy91 於 2008-5-14 05:00 PM 編輯 ]
作者: jiming    時間: 2008-5-21 03:15 PM
標題: 羅門哈斯電子材料公司獲頒SSMC 2007年最佳供應商獎
新加坡-5月14日-全球半導體產業之化學機械研磨技術領先與創新廠商--羅門哈斯電子材料公司今天宣布其CMP Technologies事業處 獲頒Systems on Silicon Manufacturing Company’s (SSMC’s) 2007年年度最佳供應商.這也是羅門哈斯在4年內年第二次從SSMC獲得此項殊榮。這個獎項是類似羅門哈斯今年三月所獲得的日立半導體新加坡卓越供應商獎。) _  u9 n3 ^. \0 h3 }

4 @% @: u9 m% w$ _ “SSMC是建立於與供應商建立持久的夥伴關係哲學基礎上，羅門哈斯長期以來不斷提供我們最高水平的服務 “SSMC  Corporate Service Division 副總裁Lee On Nam說。 “我們向羅門哈斯CMP Technologies事業處表示我們的祝賀，並感謝它的努力及長期的支持。我們期待著繼續我們的夥伴關係“* s) B" C2 [) [/ L9 _0 ~% U

' ?3 H: C2 g/ m- w3 O羅門哈斯電子材料獲得這獎項，是基於其在SSMC的供應商評級制度的表現，其中物料供應商評估的基礎為，在該領域的技術支持，品質，回應(responsiveness)，承諾(commitment)，依賴(dependency)，物流和價格。
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; s6 h" G/ T3 k/ k8 b“在過去的一年，我們產品及服務的品質和我們的支持被SSMC承認是一種殊榮。同時，為這一成就，我們要再次讚揚S. H. Chuah和整個東南亞的團隊 ” 羅門哈斯電子材料CMP Technologies全球銷售和市場營銷executive vice president, Mario Stanghellini說 “作為一家公司，我們作了巨大努力，在提供所有產品的品質和一致性，以及提供新技術和支持世界各地的半導體製造商。贏得多個供應商獎更是證明，我們實踐我們的承諾提供高品質的服務給客戶“ 。( L9 i0 T1 ?! v* Q6 ~, }% @
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“我們對於能作為作為SSMC的重要合作夥伴表示感謝，多年的緊密合作使我們發展良好的相互關係， “羅門哈斯電子材料CMP Technologies東南亞managing director S. H. Chuah 說 “我們正致力於支持SSMC ，我們期待著與SSMC團隊更緊密合作邁向卓越的成本，健全的品質，並獲得技術和長期成功” 。
作者: heavy91    時間: 2008-7-10 09:58 AM
羅門哈斯亞洲科技中心開幕 支援尖端CMP 的應用8 ~- e4 ?5 L! j/ C6 a! v
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與亞太地區新竹製造工廠同址；進一步加強亞洲在CMP技術的區域能力9 |" x6 O8 u$ B
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台灣新竹 — 2008 年 7 月 10 日 — 全球半導體業界化學機械研磨 (CMP) 技術的創新領導者羅門哈斯電子材料公司 (Rohm and Haas Electronic Materials) (NYSE:ROH) CMP Technologies 事業部今天宣布在台灣新竹的亞洲科技中心 (ATC) 正式開幕。 ATC 的成立使CMP Technologies事業部更密切地與以亞洲為基地的客戶進行合作，並協助客戶最有效地使用高階 CMP 製程與耗材，同時提供整個亞太地區的工程與技術支援。, I" ?* y$ r( T9 G. M% c; @

, A, X; [- H. ]ATC 的特點是擁有一座能提供300mm CMP 能力的應用實驗室以及精密300mm量度的10 級與 1000級的無塵室設施,並留有空間作為未來的擴充. ATC 是為了支援世界領導級半導體製造商而成立的，目前ATC 正與主要客戶共同研究發展高階技術和下一代 CMP 應用，例如高階 32nm 與 22nm節點超低介電係數銅製程 (Low K/Cu)、淺溝槽絕緣製程 (STI)、鎢 (W)製程與層間介電層製程 (ILD)。 ATC 也成立了亞太地區CMP Technologies的應用工程技術服務團隊，並且正在籌備設置另一座分析研磨墊與研磨漿特性的實驗室。; f) Q- W4 q0 @1 b
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羅門哈斯電子材料公司亞洲 CMP Technologies 事業部執行副總裁兼總經理 Mario Stanghellini 表示：「台灣結合邏輯記憶體產業的能力相當強，因此是世界最大的半導體元件製造地。ATC的成立 將為我們帶來在該地區無與倫比的關鍵能力，從而使我們能夠與這些製造商們攜手開發並優化 CMP 耗材和製程，並直接增進他們的獲利」$ X* Q6 B( J! k

. r( H, M" H- I2 R「ATC 的成立與部署，都是為了在商品上充份支援客戶，並且同時快速參與客戶的最新科技」該公司亞洲技術部門總監余維中博士表示。「我們能為客戶提供即時的評估與意見，縮短製造週期，以便更快速實施高階的技術。 ATC 與我們本地的工程技術支援團隊，也可為客戶提供同時區、同語言與同文化的支援，更能滿足他們的需求。」# L0 f; r: m8 f* ]
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作為CMP Technologies事業部全球技術網路不可分割的一部分，ATC密切與美國的實驗室合作，支援客戶在應用發展上的需求。 ATC 座落於CMP Technologies事業部在新竹的「亞太地區製造與科技中心」。這所技術中心，可確保客戶在單一的地點直接取得所有產品與服務。 新竹廠區已通過 ISO 9001 與 ISO 14000 認證，所有的作業也都符合六標準差原則，包含製造、供應鍊管理、高階研究發展、CMP 應用工程、技術服務與業務支援等。
作者: jiming    時間: 2008-7-29 11:15 AM
標題: 羅門哈斯公司擴建亞太區製造廠，增加在臺灣的投資
2008年7月29日臺灣新竹報導——羅門哈斯電子材料公司（Rohm and Haas Electronic Materials，紐約證券交易所：ROH）旗下的CMP Technologies事業部是全球半導體行業化學機械研磨技術領域的領先創新者。該事業部今天宣佈，擴大對其臺灣新竹亞太區研磨墊工廠的投資，以加快提高產能，滿足亞洲半導體生產客戶不斷增長的需求。新竹工廠於2007年3月全面投入營運和生產，其服務及品質皆已受到該地區主要邏輯半導體和記憶體半導體客戶的認可。
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新竹工廠是按照多期擴建方案進行設計的，這樣可以滿足亞洲市場今後對200mm和300mm化學機械研磨墊的需求。自2007年3月起，該廠研磨墊業務即已具備全面營運及生產的能力，並將於2009年初起執行完整的研磨墊製造業務，包括生產先進的VisionPad™平臺和IC1000™ AT研磨墊系列。同時這座新竹工廠並建立了發貨中心及完整庫存，以便為本地區客戶提供更好的服務。! J& F' o' E1 k7 ~- L  P" b
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羅門哈斯電子材料CMP Technologies事業部總裁宋嘉銘(Sam Shoemaker)解釋說：「我們的新竹工廠具備世界一流的先進研磨墊量產能力，包括最新針對先進的節點技術所推出的高科技VisionPad和IC1000 AT研磨墊。轉由新竹工廠供貨的計畫進行得比預期還要順利，客戶對該工廠的認證進展良好，我們也提前完成了產能擴充的準備工作。」+ `8 [8 P+ c" e- T: w1 ]

  D2 t  ?( ~0 L2 d  e7 r* u0 p該公司亞太製造中心的廠長陳光民(Cliff Chen)補充說：「為了適應需求，我們的員工數量的增長速度比計劃更快。預計到今年底，我們將在臺灣雇用200多人。在這些崗位上，將雇用一批富有實力的本地人才，包括生產人員、產品技術人員和高級CMP應用與技術服務工程師。我們堅信，隨著這座位於新竹的優秀工廠的擴建及新技術的轉移，未來該廠將提供更多的就業機會。」
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羅門哈斯的CMP Technologies事業部是最早的CMP耗材供應商之一，自1969年以來一直為半導體製造業提供產品。該公司在豐富經驗的基礎上，建立了強大的全球基礎設施，向全世界客戶提供優質和一致性的產品與服務。該公司包括新竹工廠在內的所有製造廠均獲得了ISO 9001認證，並且對於包括製造、供應鏈管理、高級研發、CMP應用工程、技術服務與支援在內的所有業務，均遵守六標準差原則。
作者: jiming    時間: 2008-9-15 12:03 PM
標題: 羅門哈斯公司全新低缺陷、省耗材之研磨墊設計 市場迴響熱烈
新設計應用在全球各地一流的高產量晶圓工廠測試和生產
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2008年9月10日臺灣新竹報導——羅門哈斯電子材料公司（Rohm and Haas Electronic Materials，紐約證券交易所：ROH）旗下的研磨技術事業部（CMP Technologies）是全球半導體行業化學機械研磨（CMP）技術領域的領先創新者。該部門今天宣佈，其新型化學機械研磨墊表面溝槽設計能夠減少缺陷和研磨液的用量，現已迅速得到全球各地市場的認可。全球各地的客戶現在開始採用這些能顯著改善製程性能的新型表面溝槽設計，以降低缺陷，延長研磨墊的使用壽命，減少化學機械研磨消耗品的整體成本。
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羅門哈斯公司的這種能減少缺陷的表面溝槽設計已得到歐洲、韓國、北美、臺灣地區客戶的採納，開始大量生產。該設計方案現已應用于羅門哈斯公司90奈米製程節點及更精密節點的IC1000™ AT化學機械研磨墊，多家客戶目前還在VisionPad™系列化學機械研磨墊上測試這款能夠減少缺陷的表面溝槽設計方案。
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同時，公司最近推出的能減少研磨液用量的表面溝槽設計也引發了市場的濃厚興趣，多家客戶現在已經開始對此進行測試。臺灣的積體電路製造商和其他客戶的測試結果符合預期目標，研磨液消耗量減少了30%，但研磨性能依然優異，這樣的結果令人信心大增。
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8 p8 X8 u/ `3 s: I. d7 k% P# y' H羅門哈斯電子材料公司亞太區研磨技術事業部執行副總裁兼總經理Mario Stanghellini說，“我們的研磨墊產品是業界功能最優越最可靠的，這些新穎的表面溝槽能滿足客戶的具體需求，幫助他們達到甚至超過對成本/效益的要求。為了處理極為複雜的表面研磨問題，我們正在測試一個能夠修正輪廓的表面溝槽設計，該設計方案可以處理客戶具體的製程問題，而且不需要客戶修改整體製程運作機制。與現有其他方案相比，這是一個顯著的競爭優勢。”" w  q. S3 I- b/ _* c3 b4 O

9 r( O9 j" I# L這個能夠減少缺陷的表面溝槽設計的創新特色就是一個面積不變的螺旋圖樣，已針對晶圓規模和表面溝槽規模的流體力學進行了優化。這一設計方案有效消除了晶圓上的局部壓力，使刮痕和缺陷出現的機率達到最低，缺陷率最多可降低50%。
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$ b( y. F# F9 ]% C! n1 M& W1 J另一款表面溝槽設計以專門的流動實驗和計算流體模型為基礎，能夠減少研磨液用量，使金屬製程中消耗品的成本減少30%以上。想要達到這樣的性能，就得讓更多研磨液到達晶圓的前緣，提高研磨墊和晶圓之間空隙內研磨液的利用率，並在特定的研磨去除率條件下降低對研磨液流速的要求。
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/ [2 }- P1 @0 [+ O羅門哈斯公司的新型表面溝槽設計可用於各類VisionPad和IC1000 AT襯墊產品，還可根據客戶要求和現有消耗品裝置或在理想的製程條件下進行訂製。化學機械研磨技術事業部的全球團隊與客戶緊密合作，為每套製程尋找最優良的表面溝槽設計和研磨墊產品。
作者: jiming    時間: 2008-9-15 12:03 PM
標題: 羅門哈斯公司推出全新ACuPLANE銅阻障層CMP解決方案
研磨墊和研磨液共同實現可控制的製程，同時降低了缺陷率和成本
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2008年9月10日臺灣新竹報導——羅門哈斯電子材料公司（Rohm and Haas Electronic Materials，紐約證券交易所：ROH）旗下的研磨技術事業部（CMP Technologies）是全球半導體行業化學機械研磨（CMP）技術領域的領先創新者。該部門今天向高級Cu/low-k材料互連應用產品推出了ACuPLANE™銅阻障層CMP解決方案。ACuPLANE系統將羅門哈斯的EcoVision™ 4000化學機械研磨墊和ACuPLANE 5000系列研磨液結合起來，組成一個可調節的化學機械研磨系統，以滿足高級製程節點的嚴格要求。7 u8 |3 M+ [* n3 s, M1 v

' `/ {4 q) v% H) F6 P- _5 V. {ACuPLANE系統通過優化研磨墊和研磨液的組合性能，使缺陷率降低了一個數量級，同時還賦予客戶更大的控制力，幫助客戶將金屬和電介質的損耗降至最低。此外，ACuPLANE系統能夠顯著改善研磨後整個晶圓表面的形貌，並能降低晶圓上的壓力以避免多孔的超低介電常數（ultra low-k）材質薄膜表面出現凹陷、腐蝕和脫層現象。, ^  c/ e) O: {6 p9 B' Z9 |

' z4 R! [; I/ L0 [6 s% k8 `羅門哈斯電子材料公司全球技術總監Cathie Markham說，「ACuPLANE系統提供的化學特性能根據具體的客戶製程需求進行調整。該系統還能直接滿足客戶需求，幫助客戶延長研磨墊的使用壽命，為客戶提供穩定一致的性能。我們的客戶最高曾在32奈米技術節點水準使用這套系統，取得了令人振奮的結果。」
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3 S8 c# o: o) s- XEcoVision 4000研磨墊的創新設計擴大了研磨墊與晶圓表面的接觸點面積，這可直接降低下層膜系上承受的壓力。這樣一來，就能最大限度消除整個晶圓上的刮痕、顫動擦痕以及薄膜脫層現象，從而減少缺陷，提高晶片產量。ACuPLANE 5000系列研磨液是為了讓用戶能夠靈活操作，控制研磨移除率和選擇性，以處理具體的製程需求。不論有選擇或非選擇製程均可採用這種研磨液，來保持或矯正即將形成的表面形貌，從而在阻障層CMP製程之後獲得出色的表面形貌性能。
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9 g! j! c( k) L+ B# x1 B8 I客戶經過測試發現，使用該產品，研磨墊的使用壽命可達到平均水準的兩到三倍，而且明顯有實現更高通量的潛力。Markham最後說，「這些結果證明，ACuPLANE系統解決方案將顯著降低銅金屬阻障層CMP的成本。」  H, \. n& L- k, @
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ACuPLANE銅金屬阻障層CMP系統由研磨墊-研磨液-研磨墊調節器解決方案構成，現已批量上市。該系統現已在全球多家300mm晶圓製程級的工廠開始大量生產（HVM）、測試和認證。



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