『半導體45/65奈米先進製程技術及材料發展趨勢』研討會

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http://ieknet.itri.org.tw/modules/news/news.jsp?opt=query&webid=ieknews&imgwidth=200&imglink=1&newsid=111

半導體產業的發展歷程中，ITRS的每一階段技術節點的突破，總是讓眾人引領期盼，能再次帶動半導體產業跳躍式的成長。目前半導體業界正跨入45/65奈米製程階段，由於微影技術、平坦化技術、介電材料及記憶體結構的進展，帶來顯著的研究成果，期許更多技術能同時應用於生產線上，讓半導體產業在技術與應用上進一步突破。

目前台灣已經成為全球半導體晶片及記憶體代工重鎮，如何導入先進製程、藉由材料技術的突破，以及元件結構的改良，降低單位成本及單位面積的產出，克服微縮製程的諸多難處，正是半導體業界成員最為關注的焦點，而這一波製程技術的演進與新材料的突破，可望為台灣半導體及材料產業提供成長的方向。
主辦單位：工研院產業經濟與趨勢研究中心（IEK）

時　　間： 2007年8月21日(星期二) 09:00~17:10

地　　點：新竹科學園區科技生活館203會議室(新竹科學園區工業東二路1號)
議 程：

時間	議程	講者
08:40~09:10	報到Registration
09:10~09:20	歡迎詞Opening Remarks	張肇顯Chang Thomas/產業分析師
		工研院產業經濟與趨勢研究(ITRI/IEK)
09:20~10:10	應用於記憶體之金屬-介電層-金屬技術MIM Technology for Memory	李隆盛Lee Lurng-Sheng/專案副理
		工研院電子與光電研究所 (ITRI/EOL)
10:10-10:30	休息 Break
10:30~11:20	Total solution of CVD/ALD for future High-K, Low-K and Copper processes	邱正杰博士/研發副總
		南美特科技 (Nanmat Technology)
11:20~12:10	Improving efficiency with scaling to new dimensions and new materials	Dr. Bryan Hendrix /Advisory scientist
		先進科材股份有限公司(ATMI)
12:10~13:30	午餐時間 Lunch Time
13:30-14:20	Low pressure CMP for the manufacture of future Moore's Law interconnects with low k dielectric materials.	宋健民 (James Sung) /總經理
		中國砂輪企業(Kinik Company)
14:20~15:10	Challenge & Solution of Wafer Cleaning for 65nm/45nm & Beyond IC Processing	林啟發/協理
		台灣巴斯夫電子材料
		(BASF Electronics Materials)
15:10~15:30	休息Break
15:30~16:20	Materials Development for Advanced Lithographic Processes	Dr. Mark Neisser /R&D Director
		AZ USA
16:20~17:10	相變化記憶體技術 Overview of Phase Change Memory Technology	趙得勝 Chao Der-Sheng/工程師
		工研院電子與光電研究所 (ITRI/EOL)