30萬元 RMB 尋求 大功率介質雙工器 技術研發

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技術要求：
1、導體處理技術：研究銅導體電塑性處理的新技術，重點研究該技術的應用對高頻資料電纜傳輸性能提升的影響，並設計相關的工藝參數，研製相關的裝備及匹配的自動化控制系統等，改變高頻資料電纜銅導體傳統處理技術，滿足規高頻資料電纜的規模化生產，並達到改善產品品質和節約能耗的目的。

2 x8 v  B3 J  o3 q. C; F$ s2、高頻資料電纜關鍵技術：（1）開發具有自主智慧財產權的高密度物理發泡技術，形成“皮-泡-皮”三層共擠絕緣層，與普通單層實心絕緣相比，芯線絕緣性能大幅提升，使信號傳輸的穩定性大為提高。（2）自主研發複合遮罩結構，鋁箔線對遮罩和金屬絲編織遮罩構成的雙層遮罩，有效提高電纜的抗電磁干擾性能，解決了超高頻信號在傳輸中的串擾、損耗、延遲、誤碼等技術缺陷。（3）自主研發無應力絞合技術和線對絞合節距，實現產品在高頻寬中的應用要求，與六類資料電纜相比，其綜合衰減/串擾比指標可以提高20%。;

+ I4 R, k/ f' P9 x* ]" Y技術指標：
3 E7 j$ I. J& D9 b8 x: e% ^1、衰減（Attenuation）≤45dB/100m（1000MHz）；
- u9 l, L4 M: M- \! j/ O5 K8 o+ ~2、近端串音功率和PSNEXT≥70dB/100m（1000MHz）；
' R# D+ c0 U4 i$ J! T3、回波損耗（RL）≥20dB/100m（1000MHz）；
( K4 ~' b; t: w8 f6 }4、延時差≤15ns/100m。

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關鍵技術1：用於產生正弦波光電信號的刻線碼盤的設計與實現。編碼器是依照光學和光電原理製成的器件，一般由光源、碼盤、光學系統及電路4部分組成。碼盤是在不透明的基底上按二進位碼製成明暗相間的碼道，光線通過碼盤由光電元件轉換成相應的電信號。
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8 z- {8 D, I" n# _0 E關鍵技術2：光電轉換電路及正弦波整形電路的設計與優化。輸出信號品質因素的優劣是判定產品技術指標的根本因素。
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- x) P! _; B) Y) Q5 k. d關鍵技術3：產品結構、防護能力、可靠性設計優化。編碼器是一種結構緊密的精密光電部件，它與電機一起高速旋轉，其可靠性及環境適應能力是其能否贏得市場份額的關鍵因素之一。
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關鍵技術4：專業生產工藝、工裝的設計與實現。

4 t7 N: m9 o% W+ b4 L0 I5 w合作面議。能者與意者請email研發簡歷與chip123聯絡。

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解決高壓電極箔產品在資源供應、工藝路線、設備選型等技術加強產品開發，充分利用現有資訊管道，加強對市場回饋資訊的研究合作。

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我公司在晶片多線線割方面做了大量的研究工作，但近幾年沒有突破性進展。本難題擬解決在大直徑超薄晶片多線切割過程中的關鍵技術問題，研究影響晶片切割中走線速度、切割進給速度、切割位置、矽片總厚度、中心厚度變化、砂漿流量、晶片清洗等工藝參數及控制措施，找到合理的工藝控制條件，達到產業化高效切割大直徑超薄晶片的要求；使晶片彎曲度（BOW)、翹曲度（WARP}、平行度（TAPER)、總厚度公差（TTA）等關鍵指標達到國際先進水準，同時產品出片率增長9％以上並達到產業化生產能力。

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& v3 ?3 s) a5 K' ]) l合作面議。能者與意者請email研發簡歷與chip123聯絡。

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主要内容和技术经济指标        P45 E27光損太厲害，目前沒有很好的方法解決這個問題
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尋求非同步電機的核心演算法。
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要求：
1、系統回應時間
2、低頻扭矩：0HZ：200%的額定轉矩
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% F' o3 K1 s$ r6 h! g* s合作面議。能者與意者請email研發簡歷與chip123聯絡。

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現今，無論是傳統觸控式螢幕還是最先進的OnCell或Incell技術都離不開氧化銦錫材料（ITO）。我們知道“銦”是一種越來越緊缺的稀土材料，這幾年價格也隨著戰略政策飛速上漲，新材料替換的節奏也不斷加快。用於觸控式螢幕製造的ITO材料的方塊電阻一般範圍是30歐˜150歐，特點是電阻越大光學性能越好，電阻越小電性能越佳。在光電性能上這是一對矛盾，特別是在Oncell技術和大尺寸觸控產品方面，低阻值ITO材料的應用和製備面臨著巨大挑戰，業內也急需新材料能改善這對矛盾。
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1 {, a# l! h5 \) ^4 j- l8 ?2 A- ~石墨烯這種材料可以解決這對矛盾。但由於製作大面積石墨烯時會混入很多雜質及缺陷，因此大多數試製品的導電性及透明性都未達到ITO的水準。在可見光下，一層石墨烯透過率≥96%，兩層石墨烯透過率≥93%，三層石墨烯透過率≥91%，四層石墨烯≥89%，其高透光性遠高於同類材料，但目前數層以下石墨烯材料還沒辦法大量獲得，且市場售價大約5000元，成本較高。現階段石墨烯尚局限在PET制程的觸控產品中，玻璃基材上的製備，及生產工藝技術，目前還是空白。

1 m. \$ ~9 w# R+ E& \$ N; Y" W隨著石墨烯材料越來越被業內渴求，這種材料的應用工藝也被提到日程上，但其性能和工藝條件的不確定成為能夠率先應用的障礙。
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# y  j) }/ c+ I合作面議。能者與意者請email研發簡歷與chip123聯絡。

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遠紅外類取暖設備轉換效率提升；
電子製冷設備的批量製造工藝；
) u3 l, [, n: I! o/ h5 i色彩還原的高效率印染技術。

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- q9 `6 u4 T1 H合作面議。能者與意者請email研發簡歷與chip123聯絡。