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東芝在四日市啟動5號半導體製造廠二期建設
)東京--(美國商業資訊)--東芝公司(Toshiba Corporation)(TOKYO:6502)今天為Fab 5二期開工建設舉行了奠基儀式。Fab 5是東芝最先進的製造廠(晶圓廠),位於三重縣四日市業務部(Yokkaichi Operations)記憶體工廠內。9 C; T! v, h7 h7 u8 `/ v1 `
& W8 a- i/ E3 r& Y; ?1 r9 [東芝將對Fab 5進行擴充,以保證採用新一代製程技術打造的NAND快閃記憶體及3D記憶體的製造空間。該專案將於明年夏季完成,設備投資及生產水準將視市場動向而定。* N* O1 M: R$ F' g4 u3 b! H/ p2 q
* J+ L% l: ]! z" H' z! R四日市業務部的三家晶圓廠目前正在量產NAND快閃記憶體,包括Fab 5一期。Fab 5計畫分兩期建造,其中一期專案已於2011年7月投入使用。在對產品供需平衡進行一番仔細衡量,發現智慧型手機、平板電腦和企業伺服器固態硬碟的需求強勁推動產品需求恢復後,東芝預計從中長期來看,市場會繼續擴張,並意識到現在正是擴充Fab 5的最佳時機。0 m F. \% v G, y1 M7 A( p6 ~
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展望未來,東芝將利用其在先進製程技術領域的領導地位擴大業務,提高競爭力,並會開發新一代記憶體來滿足市場需求。4 r5 P1 `2 E% ~3 t
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Fab 5概況
6 V1 O6 j1 c* P0 ?% d大樓結構: 兩層鋼架混凝土結構,大樓共五層
# a8 z- l8 A) H0 ~地上建築面積: 約38,000m2
/ N! K3 R4 j2 L$ T7 W0 m5 T9 f總建築面積: 約187,000m2
( R4 L' S! D3 H" z: u; Z" L$ H" ^, k開工時間: 一期:2010年7月 7 z% w4 {. t. C/ b
二期:2013年8月
9 |' b, M) D: ?$ \完工時間: 一期:2011年5月
, F- ?: q6 e+ L1 T6 P- T; T0 v% T9 j二期:2014年夏(目標)
2 x1 Q6 n9 J( K% x1 B2 ]" l投產時間: 一期:2011年7月 1 G) O3 K3 H. a, O
二期:將於稍晚確定;主要計畫用於對現有晶圓容量進行技術轉型1 O. X) P/ C" ]( l' F9 T6 k% }8 ~
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四日市業務部概況 ( E, G8 Q: e. F% ?% t8 p
位置: 800, Yamanoisshiki-cho, Yokkaichi, Mie Prefecture $ ?# D0 p6 V& p: ~
成立時間: 1992年1月
1 _* S) K. h+ L8 p, r3 n- l7 K1 j總經理: Tomoharu Watanabe
4 F+ I# m+ P; h. {8 N- U員工數量: 約5,200名
_% ^3 f& _- G4 q1 W% E(截至2013年3月底,東芝的正式員工數量)
7 e# v) t' [# T1 W場地面積: 約436,800 m2 (包括Fab 5) " O, T/ g! ~! N% \( l ^* T7 H
總建築面積: 約647,000m2 (包括Fab 5) |
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