本帖最後由 tk02561 於 2014-4-9 12:22 PM 編輯 , M% B/ R/ {% @' h( U9 t
! V3 X9 R& Z. s/ n! ~$ @表一、 全球前十大半導體製造設備廠營收排名初步統計結果(單位:百萬美元)3 S9 i9 `7 Q- m5 f" M. B& z
2013排名. m3 y6 D3 E: |; `, G4 o3 k
| 2012! M1 R. M' ?( @4 B6 Q. c! e% U
排名
3 n3 E+ W8 e7 H | 廠商 | 2013年 營收 | 2013年 市占率(%) | 2012年 營收 | 2012-2013 年成長率(%) | 1, M5 S4 n4 d0 q; {- D! ?
| 1+ h9 \ i. l3 m
| 應用材料公司 | 5,460.1 | 16.2 | 5,513.4 | -1.0 | 2: j V2 K: b: y5 x6 b
| 2
9 ~' N4 V1 ?1 C | 艾司摩爾ASML | 5,302.8 | 15.7 | 4,887.5 | 8.5 | 38 M+ |! ]. W0 h; I
| 4
, G' U" n( `3 H4 K4 N | 科林研發 Lam Research | 3,163.4 | 9.4 | 2,805.7 | 12.7 | 4
4 O7 x; e* Y! ]5 C& Q8 Z2 | | 3
4 U2 P9 I& F1 E- x# ~6 R# T | 東京威力科創 | 3,057.1 | 9.1 | 4,219.0 | -27.5 | 5! P$ J4 s. c; \. }: z7 Y
| 54 v4 y1 Y8 k9 e4 I( r
| 科磊KLA-Tencor | 2,163.4 | 6.4 | 2,463.5 | -12.2 | 61 [; o, W& L% J
| 6
1 K3 f1 x0 m3 K5 \6 d8 j' f* S | Dainippon Screen | 1,222.7 | 3.6 | 1,483.6 | -17.6 | 7% ]! s: i! @& ?3 ^7 l! X
| 8! W% e; v7 J6 F& V* X
| 日立先端科技 | 862.0 | 2.6 | 1,137.7 | -24.2 | 8
; O6 M8 L( Q1 y* p | 77 E& \6 F1 ?; c6 J6 P9 J
| 愛德萬Advantest | 844.8 | 2.5 | 1,423.4 | -40.6 | 9
1 r+ V q% y" G7 c1 f( S | 11/ n; G% y; y6 Q8 a$ Y
| 泰瑞達 | 822.0 | 2.4 | 917.6 | -10.4 | 10
, w+ t% p+ U% }( C3 _2 k7 C; `6 P" I, t | 9
. x' G, Z2 e% Y, T& ] | Nikon | 636.3 | 1.9 | 1,006.8 | -36.8 |
, \, q1 n* O- E& j! U7 @ |
# ~' W! P2 Q) } | 其他 | 10,243.5 | 30.3 | 12,296.1 | -16.7 |
3 U2 b6 c, @ V/ R' ~, m9 y, k | ) w. ^0 w+ G! K& W' W/ T
| 總計 | 33,778.0 | 100.0 | 38,154.2 | -11.5 |
資料來源:Gartner (2014年4月) 5 `. @/ S& i& }) `, f8 B* r
Rinnen指出:「值得注意的是,前十大廠商的市占率更進一步成長到70%,反觀2012年為68%。前五大廠商即占了將近全部市場的57%,較去年成長五個百分點。這些大廠的進展象徵小廠在競爭當中失利,同時也意味著設備市場越來越依賴少數幾家廠商。」 : m. M* X. L; R2 C7 {0 y0 H m; n
2013年,晶圓級製造的表現優於市場,在乾式蝕刻、微影、製程自動化以及沈積方面顯得相對強勁。支出選擇性集中於升級與採購最新技術,產能增加很少。邏輯支出則集中於20奈米/14奈米製程的準備。僅少數子領域出現成長,最明顯的是微影領域的步進機(stepper)、非管式(nontube)化學氣相沈積法(CVD)、導體蝕刻(conductor etch)、快速熱處理與熱爐,以及某些製程控制領域(如晶圓檢測、瑕疵審核與分類)。 8 Z6 k+ O4 }" k, D& ]( k
在後端製程領域,所有主要類別皆呈大幅衰退。2013年第四季尤為遲緩,因為主要半導體封裝和測試服務(SATS)大廠皆因市場不確定性而推延訂單。 |