實現65 nm設計需要購買哪些DFM工具？

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對DFM選手過篩
& n1 N8 s; b7 @  }技術分類： EDA工具與服務   作者：Michael Santarini，EDN高級編輯  發表時間：2006-11-15
" g# K8 u3 M1 n' N, Xhttp://article.ednchina.com/EDA/20061101072738.htm
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) O! t9 f: p& o7 D  v　　每月都會冒出新的DFM工具公司，很難為65 nm工藝做出選擇。但在65nm工藝節點方面的三家頂級代工廠已經代你做了一些選擇工作。

) ~8 \0 I. V" _$ S) s3 R       DFM 是表示“面向製造的設計”還是“面向市場的設計”？自從數年前提出這個名詞以來，這是很多 EDA 業觀察家一直在問的問題。在 0.13mm節點，光刻設備無法清楚地印出某些半導體的正片，EDA 供應商（如 Numberical Technologies 和 OPC Technologies
8 F5 ?- f) e1 }" T）便用 OPC（光學近似校正）工具進行挽救。當設計工藝繼續縮小到90 nm和65 nm時，光刻、掩膜製作以及晶圓都更加依賴于EDA供應商的創造和對設計工具的修改，才能保證晶片的精確製造。晶圓廠甚至要轉向EDA工具來幫助提高成品率，而這曾經是晶圓廠唯一的任務，也是最大的賣點。

3 x: M  U6 r" [　　過去四年來，EDA 業的收入一直保持在穩定的 40 億美元，它已經把 DFM 看作一種很有希望的收益增長途徑。不久前，這一看法又得到了有力地確認，三家採用 65 nm 工藝的最大代工廠都在自己的參考流程中增加了一些 DFM 技術，它們是 TSMC（台積電）、UMC（聯華微電子公司）和 CIS（Chartered/IBM/Samsung）聯盟。這樣一來，便將提高晶圓品質和產量的更多責任放在了設計者肩上。
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　　幸好，不少 EDA 供應商都願意為您提供 DFM 工具。事實上，每月似乎要湧現至少一家新興 DFM 公司，並向全世界宣稱擁有重要的技術。同時，有些老公司也採用對既有技術做少許修改的方法（但多數公司只是改動一下自己的行銷口號），然後神奇地搖身變成 DFM 供應商。而 EDA 巨頭們（Cadence、Synopsys、Mentor 和 Magma）則努力在已有的流程中增加 DFM 技術和功能，並重新劃分成 DFM 類工具，其中大多數來自物理設計、物理驗證、面向測試的設計以及 TCAD（電腦輔助設計技術）系列。

　　六月份，研究公司 Gartner Dataquest 認定了 16 家 DFM 公司提供的工具，佈局工程師會用到這些工具。這些公司是：

' E  f' B# d% t9 [  S9 \- w       Anchor Semiconductor、Aprio Technologies、Blaze DFM、Brion Technologies、Cadence、ChipMD、Clear Shape Technologies、Ponte Solutions、Magma Design Automation、Mentor Graphics、Nanno Solutions、Nannor Technologies、Predictions Software、Sigma-C、Synopsys 和 Xyalis
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     這個名單中並不包括統計時序（statistical-timing）工具的廠商，但它應當包含其中（見附文“統計時序將成為 DFM”）。EDA 市場的 DFM 區段已經變得相當大，現在存在著多個 DFM 的子類別。

9 M9 ^9 U8 Q& b' J) A  _" m　　綜合以上情況，你也許想瞭解實現 65 nm 的設計需要購買哪些工具。簡單的回答是需要多種工具。

yhchang

DFM有太多面向了
對製程人員來說 DFM必須要能反映真實的製程難度
& s/ s' V: x. y% U5 R對設計人員來說  DFM的使用介面必須要友善又實用
% ~2 B% D% l, o1 M對EDA工程師來說,  DFM 必須是個可以幫助 設計人員縮短設計時間的好軟體