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[問題求助] ESD防謢電路中,MOS的source與Drain大小不一樣,請問為何呢?謝謝!

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1#
發表於 2012-3-6 06:29:41 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain大小不一樣,請問有什麼作用?6 i1 U) B0 k( V2 q
再請問大的一邊是接Source or Drain 呢?與Pad有關嗎?, c* r$ X7 C5 u. Y( y7 W
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
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2#
發表於 2012-3-7 11:30:38 | 只看該作者
基本上 接PAD的部分會比較大 讓其具有較大的表面電阻 讓靜電電流走比較深層
3#
發表於 2012-3-7 11:34:07 | 只看該作者
本帖最後由 despair 於 2012-3-7 11:37 AM 編輯
1 a5 T9 p: N* r% m% b  n2 g& E" k
+ `9 O! r4 `7 i9 k( K* o如針對source與drain面積大小不同進行討論,主要原因為抗ESD電流的衝擊。' D' ~- ^( r: k/ Z: ]/ l& \( N* P% z
會有大小面積的差異,來因從PAD來的信號多會有ESD damage的問題。# x  h5 A0 Y3 \6 ?; O( x6 n2 X
# w; Z, ?# a8 e, Y7 {
S/D若接點看到的是從PAD接過來的信號,該接點除了co to poly之間會有較大的rule外/ `. I; b, t: I9 J  q& r% C& \
也會多層silicide bloak增加通道表面阻抗讓ESD電流走well這部份 ,用來抵抗ESD電流避免oxide or gate poly遭到破壞。- Z- a) f* g* e# X

8 k; @& F/ w& ~這只是相關ESD guidelines的一小部份,若要全盤了解還需要多查資料~加油。
4#
 樓主| 發表於 2012-3-8 15:11:20 | 只看該作者
謝謝兩位大大的解答...& _. q7 |: \9 I8 j7 Y: X2 ]& V, U
意思都差不多,我大概能了解了...& c1 Z5 x0 ~. Y
至於多一層silicide這部份,是指多加一層RPO嗎?
) o+ `- p! ?7 e1 |! u謝謝!
5#
發表於 2012-3-9 09:37:33 | 只看該作者
部分foundry是叫做RPO,或者又叫做SAB0 j2 H& _, }, Z
不同晶圓廠都有不同的稱呼
6#
發表於 2012-3-9 09:41:02 | 只看該作者
看了还是一头雾水,没看太明白3 B- }+ U* }' k3 r" ~: [
7#
發表於 2012-4-20 11:17:57 | 只看該作者
我的ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain的SCG及DCG都有加長,  H: H8 ?' B7 D
SCG約為DCG的一半,HBM可過+/-8KV, 但MM只能過+/-300V,
. _# m' c2 Z- I1 U2 b$ d有做delayer, 發現是死在source與poly的介面, 請問為什麼?
! V, a# o. P! L3 D* n% f: t知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
8#
發表於 2012-4-29 16:54:08 | 只看該作者
看一次看不懂..看第二次; y0 E( b" H' X
看第二次~不懂還是不懂~等遇到才知道
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