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[問題求助] ESD防謢電路中,MOS的source與Drain大小不一樣,請問為何呢?謝謝!

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1#
發表於 2012-3-6 06:29:41 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain大小不一樣,請問有什麼作用?4 ]- S3 b5 r* k: N  Q; @" s
再請問大的一邊是接Source or Drain 呢?與Pad有關嗎?( ]& D) G: h% E! g; p6 {
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
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2#
發表於 2012-3-7 11:30:38 | 只看該作者
基本上 接PAD的部分會比較大 讓其具有較大的表面電阻 讓靜電電流走比較深層
3#
發表於 2012-3-7 11:34:07 | 只看該作者
本帖最後由 despair 於 2012-3-7 11:37 AM 編輯 ' l, U% N; ~+ x5 ?  Z! ~" W/ I; m

( k7 ?# v% E4 B- C如針對source與drain面積大小不同進行討論,主要原因為抗ESD電流的衝擊。) B+ u) u- G! X* I7 h  A' d
會有大小面積的差異,來因從PAD來的信號多會有ESD damage的問題。
0 L9 H3 g+ }3 |8 b
3 a. z) C  O6 ]2 ]/ u( N4 ES/D若接點看到的是從PAD接過來的信號,該接點除了co to poly之間會有較大的rule外
2 }8 Q4 r/ g8 ]! Q+ S1 Z) H也會多層silicide bloak增加通道表面阻抗讓ESD電流走well這部份 ,用來抵抗ESD電流避免oxide or gate poly遭到破壞。$ F; }6 R$ b: W6 ^- r
5 v% z# |" p7 i0 v, L# ~7 c
這只是相關ESD guidelines的一小部份,若要全盤了解還需要多查資料~加油。
4#
 樓主| 發表於 2012-3-8 15:11:20 | 只看該作者
謝謝兩位大大的解答...
2 M/ K. T- C2 J- J6 q意思都差不多,我大概能了解了...
% H, L( r$ D! B% G至於多一層silicide這部份,是指多加一層RPO嗎?, {. a8 z& T) F$ r' D
謝謝!
5#
發表於 2012-3-9 09:37:33 | 只看該作者
部分foundry是叫做RPO,或者又叫做SAB. R9 |2 J: O/ G- {
不同晶圓廠都有不同的稱呼
6#
發表於 2012-3-9 09:41:02 | 只看該作者
看了还是一头雾水,没看太明白
. v. k1 C, s0 u1 ]  e0 b$ S+ I
7#
發表於 2012-4-20 11:17:57 | 只看該作者
我的ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain的SCG及DCG都有加長,: u! y* @/ F& b0 Z8 \- D- o# `7 g
SCG約為DCG的一半,HBM可過+/-8KV, 但MM只能過+/-300V,
$ f( o) W% t% ~( w2 E/ k6 J0 B有做delayer, 發現是死在source與poly的介面, 請問為什麼?/ t2 @8 m7 r: N% }2 h
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
8#
發表於 2012-4-29 16:54:08 | 只看該作者
看一次看不懂..看第二次
; s& i& B( A& L" V, k看第二次~不懂還是不懂~等遇到才知道
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