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<转自sinovale dot com>关于天线效应我在<浅析集成电路中闩锁效应和天线效应>一文中有提到过。天线效应的产生粗略的讲就是金属表面积累的电荷过多,但又无法形成对地的放电通路,结果很有可能是对栅氧造成破坏。由于现代工艺尺寸越来越先进,沟道长度越来越小,antena的问题就越来越受重视。通常,我们通过金属跳线或者在poly-gate旁边放置足够面积的diode可以避免天线效应的发生。但是金属该往上跳还是往下跳呢?
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0 R% W% Z z. a8 A4 H/ P我们都知道fab在做mask的时候是从低层往高层做的。process在每一道工序都有诸如平坦化,隔离等,之后肯定会有静电泄放的操作。从这个角度来说,假如metal3过大有antena的问题,我们用metal4对其跳线。在做metal3的mask时,metal3实际上分开的,只有做到metal4的时候他们才会连起来,而到metal4时,metal3的表面电荷已经由于工艺过程减少很多了;而如果用metal2对其跳线,在做metal3时,metal2和metal3是会相连的,并没有起到减少电荷的作用。
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栅氧漏电,尽管对功耗不利,但对天线效应是有利的。栅氧漏电可以防止电荷积累达到击穿。所以,实际上可以看到薄的栅氧较厚栅氧不易发生损坏,因为当栅氧变薄,漏电是指数上升的,而击穿电压是线性下降的。
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" k8 n6 p. ?' @" I我常用的三个避免antena的方法0 i$ B/ P0 Z& n5 l8 |
& _7 o/ `; ?, l1,跳线,而且最好是往上跳线
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2,增加NAC diode
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9 D7 B$ V( Z4 B+ l8 l3,在信号线上加一组buffer,这个方法既可以规避antena,也可以为signal增加驱动
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3 ~, g: A, a1 g: i$ n( W1 d4 A一般来说command file会定义检查是否antena metal连到gate-poly上,还有是否面积过大。解决方法我建议是在靠近gate-poly的地方断开metal用高层metal跳一下,当然这在drc中可能不太好查,所以drc一般规定在发生antena的metal上有一个N-diode(最好是close to gate)。
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* _2 ~; M$ `# x0 U, C* R1 ^<转自sinovale dot com>第一次发帖请大家海涵。 |
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