以.18製程下去劃~90奈米所出現的錯誤

ziv0819

9 U" M: B4 \' x' r
不知道有沒有大大可以幫我解決的！
因為沒有製程說明書~
而且之前畫.18都正常！
$ A* O$ R9 X/ O& z  D( K8 ~用同樣的方式加大元件距離還是出現了一堆錯誤！
6 y# Z% O0 b: p; {* m4 J: ^想請大大幫忙一下到底如何解除這些錯誤！
$ ]: d  g5 \& Q" Y謝謝大大了感恩！

motofatfat

把錯誤訊息貼出來看看
才知係瞎密錯誤
通常是 cont via 大小 不同
# v& h0 H( \: s大 metal 的 space 要比較大 等等

crystal_blue

Layout時所需的工具:
7 {8 ]- A) H, T% J- [7 n# f- O1 z
1.layout tool
0 {+ H2 E' c; ^- X1 E! k  P0 t2.Design rule (跟process 有關)
3.technology file (跟layer 設定有關)
% R" y0 x! d  `+ x: H; Z4.LVS/DRC command file (跟layout 驗証有關)

) w+ {$ u$ D& v" W2 o狀況一:
不知道你的問題是出在哪個部份，聽起來像是用process 0.18um的工具去畫0.09um的東西
0 \+ Z$ g  {& l, o+ F8 o3 f
因為你沒有你需要的90奈米的2. 跟 4. 項 所以無法去確定你畫出來的是否是你需要的size，因

為驗証一定會錯誤。

狀況二:
2 D, d. h1 U: |7 n" l
, e/ A  N2 r6 ^8 C8 s! V如果你有第2跟第4項的工具，但是是用0.18um的第3項，就可能發生layer用錯的情況，因

為依據各家晶元廠的設計不同，所使用的第3項也不同，即使是同一家在不同的製程上layer
; {/ n! v6 D1 }' n, W2 C
- y* Z- |( s; P9 a5 E2 D1 E. p! N的訂義也會有所出入，此時你就要使用layer mapping file 來去做layer轉換，使你的
1 \7 x, c) {8 N6 T- s, t4 x4 y
6 q: k2 }3 p; ^* G" BLVS/DRC command file能夠去認到對應的層。
& y3 U4 P, g3 F0 d5 W
7 w7 P/ H5 @% m0 B, Y  oLayout 要正確，最好備齊所需的工具。