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[問題求助] 類比電路特性

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1#
發表於 2008-1-11 00:07:54 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
請問各位前輩,我是剛進入ic layout不久的菜鳥,畫類比電路時有些電路型態不是很熟,例如差動對的對偁性等等,有沒有哪些書籍講到這些相關知識?8 A6 b9 z: a2 `3 L% m7 {7 u  S
一個via的阻值約多少?power line的寬度要如何取決?/ Q1 @9 n& l( [1 x, O
還有另一個問題,就是p type的電阻需要圍n gardring麻?
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2#
發表於 2008-1-11 08:44:49 | 只看該作者
有一本畫layout的經典書' V2 G2 e" |4 ]. Y
The art of layout 記得是這樣錯了請指教
/ U3 D+ J* {! r: @至於類比layout不僅僅只是layout的責任
5 N1 I5 h- F; Pdesigner必須說清楚power line寬度. 這關係到電流的密度
3#
發表於 2008-1-11 09:00:30 | 只看該作者
via的阻值, please see foundry's SPICE document or PCM spec. document. 3 z1 B2 }0 M4 E( v' A$ [/ [; f7 ^2 m
power line的寬度depends on current density, IR drop, noise immunity, etc...$ a& p8 S8 [- R6 a( |% e) ]0 H0 j
p type的電阻, diffusion type has better to have N-guardring, poly type has not.
4#
發表於 2008-1-15 11:48:15 | 只看該作者
VIA是能打滿就打滿(在這裡地方工作,他們經理告知我們的)
/ [) J* H( H5 b6 C; J8 |% ?$ |/ Q像line的寬度,你要問RD,這些是由他們來考慮的!!!' ?! m  o* k1 B0 h
所以像line的寬度,通常拿到電路時,都要先問RD,而不是畫好後在問
5#
 樓主| 發表於 2008-1-16 23:35:00 | 只看該作者
嗯嗯,像line的寬度我是有問過別人,他說1um的線可負載0.8ua的電流
6#
發表於 2008-1-17 00:24:03 | 只看該作者

回復 1# 的帖子

contact 能打多少就打多少1 N% B; r' \+ K6 ]; k. O7 s8 s
在 M1以上 考量到的是電流密度的問題(比如 有一個 5mA的電流要由 Metal1 流向 Metal2 結果你在 M1/M2之間只有打少數幾個. D9 M/ V5 o& ]0 a; F& M+ Z
contact,有可能會造成太大的電流會一直灌那幾個contact,  造成electron migration, 也就是 contact會整個燒斷. )
% I/ C3 g* k8 Y% Y4 [: F( c+ x5 _, u7 |: l9 K+ ^
因此 一個contact有一個可承受的 電流量, 不同的製程廠都會有不同的規格
: Q/ P! J9 W* h- V+ K/ n3 e如果是 M0(Poly) contact ,  除了 電流密度的考量  還可以降低 well與substrate的電阻* L6 j3 F5 C% h; I
防止 Latch-up效應發生 . 因此 contact打多 只有好處沒有壞處, 只是Layout Engineer通常都會偷懶
7 C3 v$ s: v% A8 s) }2 h2 L/ ]我想可能是因為 他們不了解 contact打的量的多寡 對整個IC的影響是什麼?, \* P% @  w: d$ b: O

( l4 e( W* |0 L: h: V% B6 o至於 M1/M2  power line的寬度   M1/M2 每um寬可以忍受的電流  同樣每個FAB廠的規定也不一樣
( {9 J3 M: q8 O% O- e大概是  每um寬 可以忍受  0.5mA到1mA不等的數字  : L  N) P" ^  u& ?( X- n
每條線上 通常會流多少mA的電流也只有做這個電路的人才會知道, 所以自然是要由 RD來給定# C# s  h# _. x* c( N0 h2 C
Layout 工程師負責畫,  寬度給太窄同樣會有 Electron migration的問題.
) v: V9 Y/ s- V
6 F6 f9 D% S& |. v[ 本帖最後由 yhchang 於 2008-1-17 12:27 AM 編輯 ]

評分

參與人數 1Chipcoin +3 收起 理由
sjhor + 3 Good answer!

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7#
發表於 2008-1-17 17:13:36 | 只看該作者
agree with  #1 & #6
. U, ?: g# D, L7 s- x. h' e( I( C3 R, A9 p) v+ e. F% ~3 }
There're many people have wrong concept.' s# @1 }6 P! p7 c4 d" h, p
why don't  you see the designrule???9 v! L) t& N& N1 P' z
they describe in detail.* V9 g3 N3 ^5 B- A- `
no need to ask RD
8#
發表於 2008-1-17 21:05:18 | 只看該作者
Layout的時候design rule文件是很重要的,- z  }: }: Z5 x- q# c  G/ s; _% G% F
很多需要參考並且遵守的資訊都在裡面喔!
9#
發表於 2008-1-19 18:36:06 | 只看該作者
喔~~原來是這樣唷~~多謝謝大大的經驗分享~~謝謝唷~~感謝
10#
發表於 2008-1-22 19:33:37 | 只看該作者

不錯耶!

我看到上面大大的回答真的很好耶!, T1 }% z; O% ^+ G( T) v8 e1 J! N$ ]
不過因為Latch up會因為Contact的多寡讓它不會發生的情形
+ {) V+ y* S; A7 ?/ G$ {* o5 {但是Latch up在跟ESD的情況下,如何去取得好的Contact確實是很重要的方針
2 p* p( g9 f3 \" [8 y+ R" H我看過其他資料,Contact的多寡會造成ESD很容易觸發,一樣會是會造成IC Failure9 L- [3 c% i* \" ?# \" Q
因為Latch up越好,同樣的ESD的效能就會影響到。# y: T4 n7 y0 \7 `9 S& l
3 Y' {3 ^) @, A$ E
這是上課的資料,如果有錯誤麻煩各位多多指教!4 a% f0 {/ e  t- j+ B
謝謝。
11#
發表於 2008-1-22 22:44:29 | 只看該作者
*latch-up 現像,是形成 pnpn or npnp 造成的吧
" W, O; V2 z5 |6 i 所謂的contact 應該是substrate contact
% B% A2 y; }4 G  Y 那是降低body 的電阻,使得電晶體不容易開啟3 m$ k0 \4 l( Q7 o, N
其實只要合乎rule,基本上已經足夠了,除非是大電流的driver: O+ n8 v) W4 z7 d! d" j, f
那就需要拉開距離,加上gard ring 才保險一點$ M3 A% r+ `% y0 u- e# {, x/ ~
3 X1 E4 |  L! b# _2 m  u
*p type 電阻......
. `$ g7 A3 l1 f/ F+ s- F p+ or p- ???
% B. J3 H0 p* y+ D3 f3 R$ G 應該不是p+吧,呵~~~~~
4 H! J3 G. t& A" n+ D. `# {" \ 假設是用p-(應該是well吧),注意一點,電阻性的元件會有壓降的
! d* v2 h7 e: c, d+ j& \6 H, V well to well 的rule (不同電位的)應該較遠吧
2 r( N4 a* T7 y# a. i& i- p/ e 那是為了防止形成寄生的電晶體(pnp)
) ~& X# R0 l( ?3 Y! e+ ~ 如果圍上gard ring (n+),等效於將寄生效應消除(base connect vdd)
, X5 l" P/ V1 }$ ~% @5 g ps.我也會圍gard ring ,但絕不是上面的理由,是為了防止noise 干擾
9 v5 }. V7 h6 `! F( @" g# Y) Z
: k7 C0 h1 Z  q$ z( H7 e( n9 |2 i*esd .....1 C2 H$ C5 ~: |) t* p/ z
Latch up越好,同樣的ESD的效能就會影響到????
3 S- o6 P% _1 s* n+ ]3 Y/ s; Q) } 不太了解這句話的意思$ O5 g# B1 m  X: Z2 H+ d1 ]& i* M
這邊指的ESD是針對 i/o pad 嗎??
12#
 樓主| 發表於 2008-1-24 23:56:13 | 只看該作者
大電流的driver,當我們在layout時,以一個array 4*4的方式去做,那為什麼不可以直接把每個mos的poly 以poly連接起來呢?  j9 o8 a$ `0 M: Y" ]' x- I" J% k$ z
我看的是把16個mos各自打上poly contact然後再以matel連接起來,請問這是為了什麼?
13#
發表於 2008-1-25 02:17:31 | 只看該作者

回復 12# 的帖子

在此說說我的看法' x+ t' k: k1 ]1 c
用Array 4*4 是為了 Layout上 對稱性的考量  避免光罩曝光時即使有偏移,不管是往上下或是左右Shift
; O0 {5 ]$ o4 E/ ~! K* ~16個MOS的元件特性偏移基本上會一致.  (降低Device mismatch)
4 ^( Q. O- ]; {6 |! V不用Poly去接  是因為 Poly 電阻都非常的大,  比Metal電阻大很多  你雖然Layout 16個MOS finger,  實質上那只代表一顆MOS  
5 R' i9 Q% {; n6 w電路設計者並不想要 電阻參雜在其中  只想要一個Pure的MOS
' h% ^( l0 d: p9 R1 i如果 MOS之間都還有串聯Poly電阻的話    這樣就不是原作者想要的一顆大Driver的MOS了.
! y& \  q7 C; [* Z* M8 S7 I& X" x" M1 H, Q# x
此外把一個大Size的MOS Layout成 很多個MOS 還可以降低Process Variation; P/ l3 M+ p8 u1 t. w9 f
比如  你要Lay    W/L    320/10    就可以拆成  ) D' G# t" ^8 @3 V2 y" f, P" f
16個     20/10       每顆MOS在製程上    有些 Width或Length做出來會  +1~5%   有些會  -1~5%   
8 y- X. o7 G8 w2 a(在此製程的變異程度是假設值,每家FAB的MOS,R,C variation程度應該都不太一樣)
* v3 K& w# v. _4 _1 m( p- q16個MOS  每顆MOS  有些 W/L 變大   有些W/L 變小  加加減減的結果    製作出來的Hardware; T4 C: q' b' l2 y; N
會比單純只 Layout 一個超大MOS  會來得更接近   W/L  320/10. x' K( ?3 r& h% j, j, c6 `6 H

; L9 N( s; r& d% x3 y[ 本帖最後由 yhchang 於 2008-1-25 02:26 AM 編輯 ]
14#
發表於 2008-3-18 01:32:06 | 只看該作者
contact能多打就多打
0 y. w4 y' b9 X8 k8 G1 C這樣子電流的效益會比較好
15#
發表於 2008-4-2 11:06:54 | 只看該作者
可以請問一下PCM的全名是什麼嗎?...
7 y$ Z# L, G' u0 z' Q8 d+ V5 w感謝~~~~~~~~~~~~~~~~~~~
16#
發表於 2008-4-18 00:31:33 | 只看該作者
PCM: Process Control Monitor, 它對應了SPICE parameters 的typical value and corner value..
17#
發表於 2008-12-2 01:00:20 | 只看該作者
加gardring是來保護電阻的阻值,項限在你在畫電阻透過電阻係數表來計算電阻阻值,能的話 它的w (寬度)能w=2是最佳的,因為他在製程的時候,會侵蝕掉它的阻值,搞不好你拿到是2k電阻 透過製程會變成1.8k或1.9k的電阻,就是因為他在製程的時候被蝕刻掉,所以能的話 加gardring 或 Gummy是比較好和用matching做法也比較好
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