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[問題求助] 類比電路特性

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1#
發表於 2008-1-11 00:07:54 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
請問各位前輩,我是剛進入ic layout不久的菜鳥,畫類比電路時有些電路型態不是很熟,例如差動對的對偁性等等,有沒有哪些書籍講到這些相關知識?
* j8 `/ d; ~1 Q+ G; r# s一個via的阻值約多少?power line的寬度要如何取決?4 t- R3 V5 q& W3 J
還有另一個問題,就是p type的電阻需要圍n gardring麻?
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2#
發表於 2008-1-11 08:44:49 | 只看該作者
有一本畫layout的經典書+ Q1 E3 g5 H4 X
The art of layout 記得是這樣錯了請指教
3 i& j5 a& {1 c2 V! {/ \% L; r; R9 R至於類比layout不僅僅只是layout的責任
6 U" R+ N% C5 [3 Sdesigner必須說清楚power line寬度. 這關係到電流的密度
3#
發表於 2008-1-11 09:00:30 | 只看該作者
via的阻值, please see foundry's SPICE document or PCM spec. document.
! w1 V& y. w+ g! Lpower line的寬度depends on current density, IR drop, noise immunity, etc...
8 F8 R( W; ]3 H4 u6 O( mp type的電阻, diffusion type has better to have N-guardring, poly type has not.
4#
發表於 2008-1-15 11:48:15 | 只看該作者
VIA是能打滿就打滿(在這裡地方工作,他們經理告知我們的)/ m1 B2 S( X* [5 X3 E
像line的寬度,你要問RD,這些是由他們來考慮的!!!. G; `" @+ m( u. p$ v( X: F
所以像line的寬度,通常拿到電路時,都要先問RD,而不是畫好後在問
5#
 樓主| 發表於 2008-1-16 23:35:00 | 只看該作者
嗯嗯,像line的寬度我是有問過別人,他說1um的線可負載0.8ua的電流
6#
發表於 2008-1-17 00:24:03 | 只看該作者

回復 1# 的帖子

contact 能打多少就打多少
6 u. a! b5 \# [, I' k9 C8 [# d在 M1以上 考量到的是電流密度的問題(比如 有一個 5mA的電流要由 Metal1 流向 Metal2 結果你在 M1/M2之間只有打少數幾個
; C+ m% W# v  B6 L& G: Q7 g/ ycontact,有可能會造成太大的電流會一直灌那幾個contact,  造成electron migration, 也就是 contact會整個燒斷. )
* Z" e) z' I) ~7 h9 l& z
) S: z% c, y- Z& i6 O8 ~( b因此 一個contact有一個可承受的 電流量, 不同的製程廠都會有不同的規格
" V! R1 n: I4 D) T) f如果是 M0(Poly) contact ,  除了 電流密度的考量  還可以降低 well與substrate的電阻9 _. u! Y* G3 Q  A! s6 x* m; T
防止 Latch-up效應發生 . 因此 contact打多 只有好處沒有壞處, 只是Layout Engineer通常都會偷懶
' Y2 F# `  |3 O- j我想可能是因為 他們不了解 contact打的量的多寡 對整個IC的影響是什麼?
! U6 G3 }2 c( o  p6 V& K" \% h0 b( e" G1 t: t
至於 M1/M2  power line的寬度   M1/M2 每um寬可以忍受的電流  同樣每個FAB廠的規定也不一樣
/ a- @) @6 l1 \% r. b; I4 i4 V大概是  每um寬 可以忍受  0.5mA到1mA不等的數字  5 B# P: M- H6 n( O
每條線上 通常會流多少mA的電流也只有做這個電路的人才會知道, 所以自然是要由 RD來給定! b3 i1 A- S$ _  I: F
Layout 工程師負責畫,  寬度給太窄同樣會有 Electron migration的問題.
$ P6 T9 N& B: Y( Q4 r4 `: V$ r8 S5 T: Z, ?
[ 本帖最後由 yhchang 於 2008-1-17 12:27 AM 編輯 ]

評分

參與人數 1Chipcoin +3 收起 理由
sjhor + 3 Good answer!

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7#
發表於 2008-1-17 17:13:36 | 只看該作者
agree with  #1 & #6
; y5 ~2 f' E( y) Z. u0 d) N$ ?* k2 F/ y- L: f% ~3 C* W$ z3 S
There're many people have wrong concept." T- |0 ~% `* V- L9 X" B  j% s0 R
why don't  you see the designrule???
: _- P% q( y1 y' g3 O1 uthey describe in detail.4 r" r6 _6 I3 |- e
no need to ask RD
8#
發表於 2008-1-17 21:05:18 | 只看該作者
Layout的時候design rule文件是很重要的,+ R. E2 ^* {( i* u) ?
很多需要參考並且遵守的資訊都在裡面喔!
9#
發表於 2008-1-19 18:36:06 | 只看該作者
喔~~原來是這樣唷~~多謝謝大大的經驗分享~~謝謝唷~~感謝
10#
發表於 2008-1-22 19:33:37 | 只看該作者

不錯耶!

我看到上面大大的回答真的很好耶!% R4 h) Q) I+ O& o/ G% Y, }
不過因為Latch up會因為Contact的多寡讓它不會發生的情形$ {: e" J7 i. C( y
但是Latch up在跟ESD的情況下,如何去取得好的Contact確實是很重要的方針8 }% B1 k: n7 i9 I
我看過其他資料,Contact的多寡會造成ESD很容易觸發,一樣會是會造成IC Failure+ `! E& F2 h- g$ d5 D2 Y0 ~& x9 J
因為Latch up越好,同樣的ESD的效能就會影響到。
! Y0 Q* ?3 P, r  T0 n* y9 |
! m" b) Z8 ?6 @! K這是上課的資料,如果有錯誤麻煩各位多多指教!
# Q/ P  u: A2 N, d) J) i0 N; s8 L謝謝。
11#
發表於 2008-1-22 22:44:29 | 只看該作者
*latch-up 現像,是形成 pnpn or npnp 造成的吧
6 j& a: |, \1 _9 I6 x' x 所謂的contact 應該是substrate contact" W1 a$ p7 @$ R# g/ x% I" l, C
那是降低body 的電阻,使得電晶體不容易開啟
0 ]7 `0 O- Y* m! z 其實只要合乎rule,基本上已經足夠了,除非是大電流的driver! }( D9 u2 }2 v) e
那就需要拉開距離,加上gard ring 才保險一點9 |) \/ E8 A9 s2 u* N' C

2 k1 \5 s" t$ F1 n*p type 電阻......
& v9 {. Q* m* J# m p+ or p- ???8 k' J& \6 e8 u5 h# c! n% d( z
應該不是p+吧,呵~~~~~
+ _, l6 l* t  a' W3 E" F 假設是用p-(應該是well吧),注意一點,電阻性的元件會有壓降的! X# {: \& W+ w4 H# J
well to well 的rule (不同電位的)應該較遠吧
* }# l  O; w% E. L7 C$ j 那是為了防止形成寄生的電晶體(pnp)4 |9 ]  Q/ u7 |) _! y: f
如果圍上gard ring (n+),等效於將寄生效應消除(base connect vdd)
! i6 [! F  s! F* Q+ z* V ps.我也會圍gard ring ,但絕不是上面的理由,是為了防止noise 干擾
, u2 z- x$ L3 j3 B& E  T/ J" n0 t8 m  X9 k8 e. ^
*esd .....+ A5 E6 ^1 y1 b6 ^2 v
Latch up越好,同樣的ESD的效能就會影響到????  m; e  U- x3 X  I# I7 C8 x
不太了解這句話的意思" s- j& Z6 T: O8 Q4 L# n- h# w
這邊指的ESD是針對 i/o pad 嗎??
12#
 樓主| 發表於 2008-1-24 23:56:13 | 只看該作者
大電流的driver,當我們在layout時,以一個array 4*4的方式去做,那為什麼不可以直接把每個mos的poly 以poly連接起來呢?
# {+ F2 g( Z3 d' M6 v: W( R我看的是把16個mos各自打上poly contact然後再以matel連接起來,請問這是為了什麼?
13#
發表於 2008-1-25 02:17:31 | 只看該作者

回復 12# 的帖子

在此說說我的看法
5 y* h; W0 n1 V用Array 4*4 是為了 Layout上 對稱性的考量  避免光罩曝光時即使有偏移,不管是往上下或是左右Shift/ K9 o* C- m% {  ?6 @0 _& U
16個MOS的元件特性偏移基本上會一致.  (降低Device mismatch)" P+ o4 f4 m- A1 ?, |) g5 i* f
不用Poly去接  是因為 Poly 電阻都非常的大,  比Metal電阻大很多  你雖然Layout 16個MOS finger,  實質上那只代表一顆MOS  
1 E2 b) Q5 e: M+ _( D8 [電路設計者並不想要 電阻參雜在其中  只想要一個Pure的MOS
/ A6 ?* h) a2 q" e如果 MOS之間都還有串聯Poly電阻的話    這樣就不是原作者想要的一顆大Driver的MOS了.
3 [6 i+ Z% K; B6 o% [- ^' W
* h+ Z, ]  u8 B' y% \0 v' Y/ J. W此外把一個大Size的MOS Layout成 很多個MOS 還可以降低Process Variation
/ H' h3 }/ K+ f. ^0 x比如  你要Lay    W/L    320/10    就可以拆成  
6 H& E' G+ ~: M: s# B9 l& [/ o16個     20/10       每顆MOS在製程上    有些 Width或Length做出來會  +1~5%   有些會  -1~5%   
8 B) G" H, D; Q/ q+ n3 [(在此製程的變異程度是假設值,每家FAB的MOS,R,C variation程度應該都不太一樣)) t/ L: u  m' O! i* n( v5 F' g& b
16個MOS  每顆MOS  有些 W/L 變大   有些W/L 變小  加加減減的結果    製作出來的Hardware
! Q* V% H0 v( U5 U2 |6 D會比單純只 Layout 一個超大MOS  會來得更接近   W/L  320/10
) n5 D" J6 J% h2 \
6 q$ ^; d' k! ]  w7 O; q9 g[ 本帖最後由 yhchang 於 2008-1-25 02:26 AM 編輯 ]
14#
發表於 2008-3-18 01:32:06 | 只看該作者
contact能多打就多打
2 f3 v5 E% ?# o- C/ y  ^+ a這樣子電流的效益會比較好
15#
發表於 2008-4-2 11:06:54 | 只看該作者
可以請問一下PCM的全名是什麼嗎?.../ j( p* S0 L" f! c
感謝~~~~~~~~~~~~~~~~~~~
16#
發表於 2008-4-18 00:31:33 | 只看該作者
PCM: Process Control Monitor, 它對應了SPICE parameters 的typical value and corner value..
17#
發表於 2008-12-2 01:00:20 | 只看該作者
加gardring是來保護電阻的阻值,項限在你在畫電阻透過電阻係數表來計算電阻阻值,能的話 它的w (寬度)能w=2是最佳的,因為他在製程的時候,會侵蝕掉它的阻值,搞不好你拿到是2k電阻 透過製程會變成1.8k或1.9k的電阻,就是因為他在製程的時候被蝕刻掉,所以能的話 加gardring 或 Gummy是比較好和用matching做法也比較好
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