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[問題求助] DRC 出現的錯誤

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1#
發表於 2008-1-6 23:58:36 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
在DRC時有兩個錯誤不知道如何解決,又看不懂希望能給我解答。$ e2 T: D, G" u- |. [
謝謝!!
8 ^+ ~3 ]: F5 z  I1. PO.R.1 { @ Min poly area coverage < 14%  t# M7 i$ e7 h0 @
   DENSITY POLYI INSIDE OF EXTENT < 0.14 PRINT POLY_DENSITY.log
- ~) U0 V) O7 X8 N# j% G2 T}
8 i' o& ?( p- @# E! d. a2. M1.R.1 {@ Min M1 area coveger < 30%
* \8 Z. L3 }, a% b, x; o: y   DENSITY M1I INSIDE OF EXTENT < 0.3 PRINT M1_DENSITY.log/ K; l3 g6 ~  {; F0 @3 T
}
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2#
發表於 2008-1-7 00:24:58 | 只看該作者
如果你是要下晶片,那最後有多餘的空間上補上poly &metal1即可
. k" t3 |8 p; l) \5 z3 g: s如果你不需下晶片,那這個跑DRC時可以忽略9 f& v0 M5 p0 e1 O  M/ H4 J
PO.R.1==>poly面積佔總layout 小於14%, T3 {3 J0 V' K$ R! q. o# H$ t& k
M1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於14%
3#
發表於 2008-1-8 09:54:33 | 只看該作者
說的沒錯,但好像有筆誤:" l. s5 s1 _' E: ~0 C8 P
M1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於14% ---> 小於30%
4#
發表於 2008-1-8 17:08:51 | 只看該作者
一般 POLY & MT1 density 不夠應該是 whole chip device 不多造成,如果 chip 還有面積的話,建議加一些 VDD<->GND MOS CAP ,如此可以同時提高 POLY & MT1 density .
5#
發表於 2012-2-3 19:05:14 | 只看該作者
小弟的淺見...6 t- n( d3 X4 M' h- A% |. h1 s. S
這應該是poly與metal的density的問題....
8 g2 E7 O. r6 I  D) FPO.R.1==>poly面積佔總layout 小於14%9 K3 ]* }  G0 ^: E" e8 G/ b, M  r
M1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於30%
1 T$ c! Q: k# {/ i: p% g+ M好像增加poly跟metal1就可以解決的樣子
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