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[問題求助] bjt 的 layout

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1#
發表於 2011-9-15 11:28:03 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
請問 PDK 中的 BJT 射極的部份
' k. f1 j0 M% o4 B9 P+ {  @0 L! t- e& K/ [9 `
CT 和 OD有一段距離
$ ^- g  V# ?" s( O& V
  o& E, s7 ]8 o0 q) d+ ]) E1 v留那段距離目的是為甚麼?
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2#
 樓主| 發表於 2011-9-16 14:22:27 | 只看該作者
我再補充一下問題
# W' \1 _/ H. y* A, r' v1 e
8 x: d0 r* O! j0 u. q) ]我的意思是射極上的CT 沒有打到最滿
$ W  R2 N- p$ C* [/ k) H& \: D' d' k6 c: u9 r
離邊緣還可以打上3個左右
3#
發表於 2011-9-16 22:19:53 | 只看該作者
CT是哪一層layer?; A4 Z6 |0 ~. S5 C
NPN or PNP?
4#
發表於 2011-9-22 09:31:08 | 只看該作者
本帖最後由 CHIP321 於 2011-9-22 09:32 AM 編輯 ' e. n0 \! N$ _5 b9 e

3 U2 R6 ^. z* a# ~3 B$ ICont 在CMOS兼容工艺中可能考量的不是太多,因为会在整个区域做saliside等硅化措施。但是如果要严格的说的话,cont的位置,cont的深度及结构本身是会对射级注入效率产生影响的。所以Desgin 需要遵循 DRC Rule,不能随意更改,另外你这里提到的估计应当是纵向管,接触位于射极中心,会减少射极的横向(侧边)注入,在不变更三层结结构,尺寸下,能额外提升发射极效率。很多BiCmos中会使用一个Contact来做射极连接。其他寄生还会有些利弊影响,可能不是主要考量因素。这是我暂时能想到的,供LZ参考,不当处请批判指正。
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