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說明:( [: W# X! y4 h5 Y" F
因應半導體技術邁入65奈米時代,設計複雜度日益提升,IC設計公司面臨許多設計挑戰;因此,思源科技特別邀集業界領導者與學界精英共聚一堂,以Design Challenges Moving Into 65nm為主軸,深入探討電子設計自動化工具的創新想法及新穎技術。
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4 N( d& W; b3 I# L( Q$ u( s主題議程:
" S2 R, p& R A& |( w$ FESL電子系統層級設計
2 e8 ?9 i! I4 DAnalog Design 類比設計 1 D8 x' a3 B1 d. K1 }: G: |
DFM 可製造性設計
. @' p4 ]2 W3 F6 W! z" RSystem Verification 系統驗証
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2008年5月7日(三) 9:00am - 4:00pm,台北晶華酒店3樓
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主辦單位:思源科技% \: E" c* ]' o/ |, l. [) o2 ~; g
6 f/ D& o# ]5 _, b* f/ hhttp://www.springsoft.com/eda-2008/index.html |
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