|
double via, metal /od/poly fill 算是基本的DFM....9 l! b1 n2 V9 |1 f
LPC, VCMP.....可能從65nm開始..
. \& X$ N/ f7 @& MBlaze DFM這個厲害 for low power, leakage issue, idea是蠻不錯的,只是實際應用上有無宣稱的那麼厲害?
3 v5 z9 h, q: w* @9 |) s一般的design應該會用mult Vt...之後的空間有多大,depend on design
[, G, X: F6 q2 R0 j+ U# W, f& B: z |8 p/ {, [( \* ~
Cadence 是merge了clear shape..8 E8 I( S% Y+ A
Magma LPC(Lithography Process Checking)/LHC(Lithography Hotspot Checking)強調的是可以整合在APR的tool上
/ L3 |- p% x2 q" F0 kLPC 以一般來說65nm, 45nm的比較需要, 90nm還不是很需要 |
|