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有一本書我覺得蠻不錯的
( p, B5 j) y2 } T Z6 M原文跟中文書都有 也是大部分技術學院大三大四3 h" h* l" @5 |. C f* O# L
會使用的 半導體製程概論 教材
" ], H8 u3 Y+ n8 t, U看完這本再去看 莊達人的 VLSI 製造技術, 高立出版 9 B( R8 l9 J; m4 o+ Q( G; |( G3 k$ @
整個製程概論應該就會蠻了解 (莊達人這本跟施敏的半導體元件物理幾乎每個固態組的學生都會買)5 X5 @( x. h. i
/ a2 z8 q/ F# \- k( ~Introduction to semiconductor manufacturing technology
& o3 Q+ V5 v4 E半導體製程技術導論0 ^/ j! x% E- Y6 u7 p3 Q
原著 Hong Xiao
7 o) u8 p' e7 R譯者: 羅正忠 張鼎: }: _7 Z0 x& T
. h' [8 I7 q. w/ U7 D以下簡列書的目錄
1 F2 `& B: K7 _* `7 [ Z$ v. wCh1 導論
7 u" }1 r. t: @8 JCh2 積體電路生產的簡介
. L) b9 o; t% F. |# b! BCh3 半導體的基礎: G% E0 B- J! N, t3 d; k
Ch4 晶圓製造$ x j5 F6 k0 {/ T: L/ ?' n6 @+ v2 M
Ch5 加熱製程
8 a! ^5 e: w) n5 b4 ACh6 微影技術! l6 D5 ~9 C0 f" K* i
Ch7 電漿的基礎原理, o) P% k/ q8 {9 K# D9 E/ Z
Ch8 離子佈植
/ A) e8 d! \2 B% V* n+ RCh9 蝕刻
' y4 J4 Q0 N2 V0 h2 S+ HCh10 化學氣相沉積與介電質薄膜
* X4 c2 R9 d& G3 G+ iCh11 金屬化製程
0 h) ] Z2 A$ o" z+ PCh12 化學機械研磨6 q5 S' ]" [1 C9 P+ l
Ch13 製程整合
: l( u/ V0 H: y" {& eCh14 CMOS製程% s3 r- Z5 Z3 U J, f' Y4 q, e
, g; Y. i( E. E9 ?( S6 d1 \9 I
這些都是基礎 到了公司學到的 不同公司的製程 對各個Layer的命名方式都會有所不同
, x8 |2 Z. s0 P學習這些基本理論的原因 是要培養 你對整個半導體 從最底層到最高層一個建構剖面圖的觀念+ V- H6 k) j" T% q: a
用什麼製程技術產生Oxide做隔離 用什麼製程技術做成Channel , B" w4 M, ~" h% X( {3 @6 A; G; x
怎麼樣做出濃度不同的diffusion, 寄生BJT或Diode又是怎麼形成的等等 E7 ~% q( ~# G: F: }
6 e Y# r8 ?- }- T6 W! E在這邊比較可惜的是 以前的交大NDL有 半導體製程的教學網頁 會把0.35um的製程從第一個步驟介紹的最後一個步驟- J/ o2 C" Q: \+ {4 q1 m
都是用動畫的方式來呈現 對當時還在唸大學的我非常有幫助, 不過現在好像找不到這個網頁了 殘念% X, Y4 B/ R4 J/ Q$ a
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[ 本帖最後由 yhchang 於 2008-2-4 10:49 PM 編輯 ] |
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