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[問題求助] 製成變換跟mos 大size的關係

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1#
發表於 2007-10-8 17:46:05 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
有一組可以在tsmc.18製成下work的電路( ^# K% h6 m" C" P4 F0 g  p0 K9 G, f
1 I7 K$ v- p) r' R
如果改用tsmc.35來設計時 mos大小可以照倍數調整嗎?!  ^2 @/ h5 _( u* T3 z$ _0 U6 V
7 z5 y! L2 Q6 t8 H& X! u, t
如果可以 倍率約是多少呢??* r2 b% l- h4 R# K* D

1 R: I( ?, K8 x  W感情大家!!

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2#
發表於 2007-10-8 19:42:31 | 只看該作者
基本上應該不行直接換7 k* X7 M8 G3 y; A% a- L
SPICE Model不同
" m  i4 I( k. y) l& J參數也不同
% o! u3 [4 Y# j& A: i5 ^. T1 ^應該無法直接比例放大, X3 y( G. z4 j5 n9 g6 `

1 M0 I  b, w/ S5 X$ c可是如果數位電路可能可以) m3 T/ h' W# F$ I
不過放大Rail Time and Fall Time可能會變差
3#
發表於 2007-10-18 09:35:51 | 只看該作者
其實這一部份!! 要看你的規格需求吧!!
  ?0 z) b( O- P+ j  C同樣的  0.18um 的製程!!  都不一定相同!!
2 }: J. ]9 n: v( b3 M* A+ ^: f& B2 Z所以  最好依你自己的規格  重新設計會比較佳!!
4#
發表於 2007-11-29 17:48:56 | 只看該作者
還是重畫吧..雖然是同晶圓廠但製程是差了一萬八千里..看看Design Rule你就知道了..雖然之前聽說有一個可以改廠..改製程的軟體但聽說跑完之後還是有一堆Rule要改.......蠻費時的..要不然..你覺得Design  要 Layout 幹麻...  當然..萬一IC不會動..拿來推卸責任...是另一種功能....!!
5#
發表於 2007-11-29 17:58:43 | 只看該作者

回復 1# 的帖子

早期LAYOUT 用參數制
6 J% G4 G. o/ c就是想這樣做
+ N, {% _7 e: [9 H$ A! V1 n後來發現不行
+ u4 `1 n1 f' w) {' ]9 j不是每ㄍ都按相同比例
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